石英粉是用純石英（天然石英或熔融石英）經(jīng)破碎、揀選、清洗、酸處理、高溫熔化、中碎、細磨、分級、除鐵等多道工序加工而成的符合使用要求的粉體。石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式，各種常規規格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M為目數)。另外也可按客戶(hù)要求加工異型規格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等級，只分規格。因其具備白度高，無(wú)雜質(zhì)、鐵量低等特點(diǎn)，故應用范圍廣。

干法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉、精制石英粉二種等級。因石英石礦料從山上開(kāi)采下來(lái)的時(shí)候，本身帶有黃褐色的表皮。挑選出較小的石英石礦料直接破碎篩分的產(chǎn)品稱(chēng)普通石英粉，表觀(guān)呈現黃褐色與白色相間，其優(yōu)點(diǎn)是價(jià)格便宜，缺點(diǎn)是雜質(zhì)較多，故多用于建筑行業(yè).挑選出大的礦料，經(jīng)過(guò)人工去除表面黃褐色外皮，再加工而成的就是精制石英粉了，其表觀(guān)呈現白色，亮晶晶，如同白砂糖一樣。因加工過(guò)程費時(shí)費料，故價(jià)位較高。
　　水法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉和精制石英粉。把較小的石英石礦料加工成普通石英粉，把大的石英石礦料加工成精制石英粉。與干法石英粉相比，水法石英粉因在生產(chǎn)過(guò)程，較少產(chǎn)生設備鐵以及用水沖走雜質(zhì)，如含鐵量及雜質(zhì)都少于干法石英粉，但因其加工較為費工費料，故價(jià)位較高。
　　石英粉不分等級，只分規格。因其具備白度高，無(wú)雜質(zhì)、鐵量低等特點(diǎn)，故應用范圍廣.

優(yōu)良的自然石英,經(jīng)由過(guò)程怪異的低溫處置工藝加工而構成的粉末,重鈣粉使其份子布局分列由有序分列轉為無(wú)序分列.其色白,純度較高、活動(dòng)機能好、并具備如下機能:
　　一、精良的光學(xué)性子:方石英的折射率從石英的1.55降低到1.48,更靠近PE、PP及一些樹(shù)脂的折射率.夾雜后的樹(shù)脂呈通明狀,不粉飾顏料自己的色采,而用別的填料添補則會(huì )使顏料的色采變淺、失真.
　　二、反射率:方石英的詳細布局有助光反射,可代替玻璃微珠作反光油漆,既可加強防滑性,又可進(jìn)步油漆的反光性.
　　三、白度,低密度、光彩亮光:方石英的白度達95%以上,在涂料、油漆中使用,可代替部門(mén)鈦白粉,低落配方本錢(qián).
　　四、抗腐化,耐刻畫(huà)、耐擦洗、耐磨機能好.
　　五、不含有機物凈化,金屬含量極低:可加強涂料的抗紫內線(xiàn)本領(lǐng),并具備精良的絕緣性、精良的電磁輻射性和低的介電常數.
　　六、精良的抗熱震性.方石英受熱220m240℃左右時(shí),產(chǎn)生必定水平的熱收縮,恰好抵償環(huán)氧樹(shù)脂、石膏等在此溫度下固化反響時(shí)的緊縮,使澆注體不變形.
　　七、極低的熱收縮系數、抗積淀性好、抗腐化性好.
　　利用行業(yè):電子質(zhì)料、高功效環(huán)氧樹(shù)脂、緊密鍛造、電瓷、電子晶片打磨、拋光質(zhì)料、珠寶行業(yè)、特種陶瓷質(zhì)料、特種耐火質(zhì)料、造紙、涂料油漆涂料、緊密模具、屏障質(zhì)料行業(yè),日用化工,粘合劑,塑料,PTC質(zhì)料、航空、航天、齒科質(zhì)料和硅橡膠等中填料,各種產(chǎn)業(yè)庇護涂料、木器、粉末涂料、油墨及其余功效性利用

石英粉、石英砂、硅微粉的分類(lèi)如下：
普通石英砂(粉)，精制石英砂，高純石英砂，熔融石英砂及硅微粉等等。

微硅粉的細度：硅灰中細度小于1微米的占80%以上，平均粒徑在0.1～0.3微米，比表面積為：20～28m2/g。其細度和比表面積約為水泥的80～100倍，粉煤灰的50～70倍。石英粉常用規格為400目，800目，1000目，1500目及2000目。

微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進(jìn)行氯化反應，反應氣體經(jīng)旋風(fēng)分離除去雜質(zhì)，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個(gè)“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱(chēng)作金屬硅。再將金屬硅融化后進(jìn)行重結晶，用酸除去雜質(zhì)，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過(guò)程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進(jìn)行進(jìn)一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開(kāi)式電弧爐，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。

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