石灰投加裝置產(chǎn)品特點(diǎn)?

　1. 基本進(jìn)出能力：粉料倉的貯存能力從5m3至150m3；石灰粉的制備能力從5―10000kg/h：石灰乳液的制備能力從100—100000kg/h（濃度百分之10）。

　2. 連續式全自動(dòng)配制，粉料給料機帶調速裝置，給料量調節范圍廣，石灰乳液配制濃度更好。

　3. 可選的振打器或破拱器，可以使石灰下料更順暢。

除塵裝置：常用布袋除塵器，在粉料氣力輸送系統中，用以分離與清除逸出的含塵氣體的設備，顆粒大、比重大的粉塵由于重力沉降，而顆粒小的粉塵在氣體通過(guò)濾料時(shí)被攔截下來(lái)，進(jìn)而氣體得到凈化，粉塵顆粒得到去除，可有效地防止氣力輸送時(shí)污染的擴散，保護環(huán)境和人體健康。石灰粉的環(huán)境高容許濃度為5mg/m3，吸入的過(guò)量粉塵可能導致塵肺病。

插板閥：可阻斷給料機與物料間的聯(lián)系，便于在給料機維護時(shí)隔斷物料，同時(shí)也起到降低給料機所受壓力的作用，延長(cháng)其使用壽命。給料前，要提前打開(kāi)給料機，使其運行平穩后，然后再開(kāi)啟插板閥，物料通過(guò)打開(kāi)后的插板閥均勻卸料。卸料完畢，關(guān)閉插板閥，給料機在傾斜物料干凈后再將其關(guān)閉。插板閥的啟閉有手動(dòng)和自動(dòng)兩種方式。

在料倉靠近爬梯一側分上中下裝有三個(gè)料位計，當料倉里的石灰粉到達料位計位置時(shí)，料位計會(huì )停止運轉，電控柜上的指示燈亮起，說(shuō)明倉里的石灰粉到了料位計的位置，當石灰粉達到上部第三個(gè)料位計時(shí)，電控柜上的指示燈亮起，同時(shí)電控柜會(huì )發(fā)出蜂鳴報警，這時(shí)要停止進(jìn)料，關(guān)閉震動(dòng)器開(kāi)關(guān)，停止進(jìn)料。

石灰乳泵由使用點(diǎn)的液位傳感器控制開(kāi)啟與停止，當液位下降到設定數值時(shí)，傳感器會(huì )給電控柜一個(gè)信號，石灰乳泵工作，開(kāi)始往使用點(diǎn)供料，這時(shí)使用點(diǎn)液位開(kāi)始上升，液位上升到設定數值時(shí)，石灰乳泵停止工作。當石灰乳泵工作時(shí)，溶解罐的液位開(kāi)始開(kāi)降，溶解罐上裝有液位計，同理，溶解罐液位上升或下降到設定數值時(shí)，出料系統開(kāi)始運行或停止。當料倉里的料位下降到下面料位計時(shí)，系統停止工作，電控柜開(kāi)始蜂鳴報警，提醒工作人員準備進(jìn)料工作。料倉容積根據使用量，可以做三至七天的容量為宜。在料倉有料的前提下，智信環(huán)保的石灰投加,石灰投加裝置整個(gè)系統可以實(shí)現無(wú)人值守，自動(dòng)運行狀態(tài)。

化學(xué)調理是通過(guò)向污泥中投加調質(zhì)劑，產(chǎn)生電性中和和吸附架橋的作用，破壞污泥膠體顆粒的穩定，使分散的小顆粒之間相互聚集形成大顆粒，從而改變污泥的脫水性能。一般采用石灰和三氯化鐵為調質(zhì)劑。先投加三氯化鐵，鐵離子水解形成膠體羥基聚合物或氫氧化物沉淀，通過(guò)靜電粘附、網(wǎng)捕等作用，改 變 大顆粒污泥的穩定性，卷掃小顆粒污泥，形成有一定承載力的絮體顆粒。
石灰投加裝置是一種將生石灰粉劑儲存、配置并投加的設備。石灰粉劑在石灰倉內貯存，均勻下料至喂料機，螺旋輸送給料機將石灰粉劑送入溶解桶進(jìn)行溶解，溶解桶攪拌機對溶液進(jìn)行充分攪勻，制備后溶液由螺桿泵送至用戶(hù)使用點(diǎn)。
石灰料倉是將氧化鈣(或者熟石灰氫氧化鈣粉末，粒徑在200目的細微顆粒)通過(guò)散裝罐車(chē)輸送至儲料罐，然后按照投加量定量投加的系統裝置?？紤]到環(huán)境衛生因數，整套系統在密閉環(huán)境下進(jìn)行，有效避免了因石灰飄逸危害環(huán)境的現象，避免外界有揚塵而影響現場(chǎng)操作人員身體健康;石灰料倉設有完善的防架橋裝置，可消除石灰粉末因長(cháng)期積放在儲料罐而無(wú)法出粉;不同的應用場(chǎng)合，對粉末計量后的處理方式不同，板框機前期的污泥調理直接投加干粉;降低水質(zhì)硬度、PH調節一般需要配制成石灰乳投加。此時(shí)應考慮利用設備結構去除原料中的渣滓，避免后續處理的繁瑣。
石灰料倉需要加堿的原因具體介紹如下：

　　1.在pH8.2以上，所有二氧化碳轉化為碳酸鹽離子，可通過(guò)反滲透去除。二氧化碳本身就是一種氣體，會(huì )通過(guò)液體自由進(jìn)入RO產(chǎn)水，為下游離子交換床的拋光帶來(lái)不適當的負荷。

　　2.一些TOC成分在高pH下更容易去除。

　　3.高pH條件下，二氧化硅的溶解度和去除率較高(特別是9)。

　　4.在高pH條件下，除硼率也較高(特別是9)。

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