穩定劑在拋光液中起到穩定和調節pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過(guò)程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩定性。同時(shí)，穩定劑還能調節拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。

在使用氧化鋁拋光液時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類(lèi)型，根據需要進(jìn)行調配。

2. 在拋光過(guò)程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時(shí)間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩定性，及時(shí)更換或補充添加。

優(yōu)點(diǎn)：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過(guò)程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過(guò)程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無(wú)粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

注意事項:

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì )影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

化學(xué)機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有特的化學(xué)和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學(xué)試劑，從而達到增強拋光和選擇性?huà)伖獾男Ч??；瘜W(xué)機械拋光液的性能是影響化學(xué)機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò )合劑、表面活性劑、磨料、pH調節劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會(huì )產(chǎn)生很大的影響。

目前市場(chǎng)上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩定性好等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見(jiàn)的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。