氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。

注意事項:

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì )影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

目前市場(chǎng)上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩定性好等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見(jiàn)的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。

氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調節劑0.1?10、余量為高純水；其制備過(guò)程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質(zhì)。

氧化鋁拋光液是一種應用在金相拋光中的磨料。其實(shí)，它的作用還遠不止于此。它還可以去除樣品表面肉眼不可見(jiàn)的表面變形層，尤其是使用高倍物鏡、偏振光、微分干涉或EBSD 技術(shù)檢測或是評定樣品時(shí)。對于一些做鑄鐵、鋼、不銹鋼、銅、聚合物、礦物質(zhì)、微電子、貴金屬等金相樣品制備的實(shí)驗室來(lái)說(shuō)，氧化鋁拋光液是的一種磨料。

當我們使用了這種拋光液之后，它可以通過(guò)純粹的機械拋光快速地去除材料，達到不錯的表面處理效果。而如果選用其它種類(lèi)的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過(guò)化學(xué)/機械的拋光方法與材料表面形成反應層。雖然柔軟的硅膠去除反應層也可以得到一個(gè)的表面，但是在工藝上無(wú)疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性?huà)伖獬尚偷?。所以大家在大部分的情況下，比如我們在做金相時(shí)，往往都是使用這種可以通過(guò)純粹機械拋光的拋光液。