氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分，其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆?？商峁└毮伒膾伖庑Ч?，而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外，氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性，能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。

優(yōu)點(diǎn)：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過(guò)程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過(guò)程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無(wú)粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

氧化鋁拋光液是一種以多晶氧化鋁為主，氧化鋁顆粒大小均勻，相比氧化硅拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節約30-50%，加工流程縮短，且不會(huì )在工件表面上形成硅元素結晶，減少清洗成本。

化學(xué)機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有特的化學(xué)和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學(xué)試劑，從而達到增強拋光和選擇性?huà)伖獾男Ч??；瘜W(xué)機械拋光液的性能是影響化學(xué)機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò )合劑、表面活性劑、磨料、pH調節劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會(huì )產(chǎn)生很大的影響。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無(wú)損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(cháng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液具有以下性能：
1、晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩定性好；
2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
3、研磨，拋光效果好，研磨效率遠遠二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。
4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。