在使用氧化鋁拋光液時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類(lèi)型，根據需要進(jìn)行調配。

2. 在拋光過(guò)程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時(shí)間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩定性，及時(shí)更換或補充添加。

氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。

注意事項:

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì )影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

化學(xué)機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有特的化學(xué)和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學(xué)試劑，從而達到增強拋光和選擇性?huà)伖獾男Ч??；瘜W(xué)機械拋光液的性能是影響化學(xué)機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò )合劑、表面活性劑、磨料、pH調節劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會(huì )產(chǎn)生很大的影響。

氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調節劑0.1?10、余量為高純水；其制備過(guò)程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質(zhì)。

氧化鋁拋光液是一種應用在金相拋光中的磨料。其實(shí)，它的作用還遠不止于此。它還可以去除樣品表面肉眼不可見(jiàn)的表面變形層，尤其是使用高倍物鏡、偏振光、微分干涉或EBSD 技術(shù)檢測或是評定樣品時(shí)。對于一些做鑄鐵、鋼、不銹鋼、銅、聚合物、礦物質(zhì)、微電子、貴金屬等金相樣品制備的實(shí)驗室來(lái)說(shuō)，氧化鋁拋光液是的一種磨料。