在使用氧化鋁拋光液時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類(lèi)型，根據需要進(jìn)行調配。

2. 在拋光過(guò)程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時(shí)間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩定性，及時(shí)更換或補充添加。

注意事項:

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì )影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無(wú)色透明色固含量的20%-25%。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該5-10納米的氧化鋁是經(jīng)過(guò)原來(lái)粒徑稍大的納米氧化鋁經(jīng)過(guò)層層深加工篩選出來(lái)的氧化鋁，具有明顯納米藍相，添加到各種丙烯酸樹(shù)脂，聚氨酯樹(shù)脂，環(huán)氧樹(shù)脂，三聚氰胺樹(shù)脂，硅丙乳液等樹(shù)脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以明顯提高樹(shù)脂的硬度，硬度可達6-8H甚至更高。完全透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，由于其納米粒徑相當細小，固無(wú)論是何種溶劑皆是透明的，同時(shí)可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。

化學(xué)機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有特的化學(xué)和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學(xué)試劑，從而達到增強拋光和選擇性?huà)伖獾男Ч??；瘜W(xué)機械拋光液的性能是影響化學(xué)機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò )合劑、表面活性劑、磨料、pH調節劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會(huì )產(chǎn)生很大的影響。

目前市場(chǎng)上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩定性好等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見(jiàn)的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。

氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調節劑0.1?10、余量為高純水；其制備過(guò)程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質(zhì)。