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真空鍍膜機為什么會(huì )越來(lái)越慢這種情況有兩種可能
1、設備內部由于長(cháng)時(shí)間鍍膜導致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護，即把內部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒(méi)有發(fā)現，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒(méi)有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀(guān)察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說(shuō)的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來(lái)算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數值。
真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中，多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō)，極為敏感的半導體資料。此外，其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質(zhì)，需求盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低報價(jià)制造、因而選用薄膜的狀況許多。
主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。
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