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美國光刻膠光刻膠配套試劑,顯影液NMD-3
廈門(mén)光刻膠 美國光刻膠顯影液NMD-3是一種光刻膠配套試劑,主要應用于半導體制造中的光刻工藝。?主要成分?:2.38%(TMAH)水溶液?包裝規格?:5升/瓶?適用類(lèi)型?:適用于正、負性光刻膠的顯影,特別針對薄膠(厚度小于5μm)的顯影?儲存條件?:需低溫儲存,通常要求
2025年09月04日 18:42:50
美國光刻膠HMDS光刻膠增粘劑電子電器材料
廈門(mén)光刻膠 美國光刻膠?核心場(chǎng)景?:?半導體制造?:用于硅片、砷化鎵、鈮酸鋰等材料的表面預處理,提升光刻膠(尤其是正膠)的附著(zhù)力,確保圖形轉移?MEMS與LED?:在微機電系統(MEMS)和LED制造中,通過(guò)HMDS氣相處理(Vapor Priming)優(yōu)化金屬電極的剝離工藝?
2025年09月04日 18:12:48
美國光刻膠漂洗液RER600
廈門(mén)光刻膠 美國光刻膠用于半導體制造中的光刻工藝,特別是銅襯底工藝的漂洗工序作為聚酰亞胺光刻膠處理流程中的漂洗液
2025年09月04日 17:33:59
" 電容電抗補償模塊采購
廣泛應用于發(fā)電、石化、冶金、環(huán)保、消防、建筑和農業(yè)灌溉等領(lǐng)域。電機調速有軟起動(dòng)、無(wú)級調速功能,廣泛應用在線(xiàn)、編織機械、包裝機械等電機傳動(dòng)行業(yè)。電動(dòng)機保護器適用于交流50Hz、額定工作電壓380V的供電電路中與交流接觸器等開(kāi)關(guān)電器組成電動(dòng)機控制
2025年09月04日 17:32:11
美國光刻膠DOWBCB3022-46半導體光刻膠
廈門(mén)光刻膠 美國光刻膠化學(xué)穩定性?:具有的耐化學(xué)性能,能抵抗多種酸堿溶劑的侵蝕?光學(xué)性能?:透明度高,固化后對可見(jiàn)光透明,適用于光學(xué)器件?機械性能?:垂直度好,能形成高深寬比的圖形結構?熱性能?:耐高溫,固化后具有優(yōu)良的熱穩定性液體光刻膠非光敏型BC
2025年09月04日 17:30:28
SKE-8000溫控器樣本
該產(chǎn)品適用于交流50Hz,額定電壓為單相220V、三相380V及以下,額定電流至63A,可作為家用電器及工業(yè)企業(yè)配電系統中做頻繁的手動(dòng)接通與分斷電路及隔離電路之用。頻敏變阻器(以下簡(jiǎn)稱(chēng)變阻器)適用于交流50Hz,轉子電壓1000V,額定輸出功率2.2~2240kW的繞線(xiàn)
2025年09月04日 17:30:01
微信在線(xiàn)
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