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回收吉時(shí)利Keithley4200-SCS參數分析儀

更新時(shí)間:2025-09-03 [舉報]

美國吉時(shí)利KEITHLEY參數分析儀4200-SCS研究應用領(lǐng)域:

半導體材料和器件的研發(fā)—傳統的半導體和微電子
器件和工藝的參數監控—半導體工藝線(xiàn),生產(chǎn)
器件的建模(Modeling)—半導體器件的設計,集成電路的設計
可靠性和壽命測試—半導體器件可靠性研究
高功率MOSFET,BJT和III-V族器件(GaN,GaAs)的特性分析
納米器件研究;
光電子器件的研究(LED,OLED等);
非易揮發(fā)性存儲器測試—Flash閃存,相變存儲器(PRAM),鐵電存儲器(FeRAM),阻變存儲器(RRAM)等;

深圳市中瑞儀科電子有限公司

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 :鄧先生+135/7087/3835(銷(xiāo)售/回收)


 :劉苗婷+150/1943/5923(業(yè)務(wù)專(zhuān)員)


業(yè)務(wù): 574084791


公司電話(huà):


公司地址:深圳市寶安區沙井中心路18號高盛大廈3A16

 


有機半導體特性分析
太陽(yáng)能電池及光伏電池特性分析
確定樣品的電阻率和Hall載流子濃度
氧化層厚度、柵面積、串聯(lián)電阻、平帶電容、電壓、開(kāi)啟電壓、體摻雜、有效氧化層電荷密度、可動(dòng)電荷、金屬-半導體功函數、德拜長(cháng)度、體電勢等。
標準C-V掃描:普通MOSFET,二極管和電容器;
MOScap:測量MOS電容器上的C-V,提取參數包括氧化層電容,氧化層厚度,摻雜濃度,耗盡深度,德拜長(cháng)度,平帶電容,平帶電壓,體電勢,閾值電壓,金屬半導體功函數,有效氧化層電荷;
MOSFET:對一個(gè)MOSFET器件進(jìn)行一個(gè)C-V掃描。提取參數包括:氧化層厚度,氧化層電容,平帶電容,平帶電壓,閾值電壓,摻雜濃度與耗盡深度的函數關(guān)系;
壽命:確定產(chǎn)生速度并進(jìn)行壽命測試(Zerbst圖);
可動(dòng)離子:使用BTS方法確定并提取平帶電壓參數確定可動(dòng)電荷。包括對Hot Chuck熱吸盤(pán)的控制。在室溫下測試樣品,然后加熱后測試,然后再恢復至室溫下以確定平帶漂移電壓,從而確定可動(dòng)電荷;
電容:在金屬-絕緣-金屬(MIM)電容器上進(jìn)行C-V掃描和C-f掃描,并計算出標準偏差;
PN結:測量P-N結或肖特及二極管的電容與其片置電壓的函數關(guān)系;
光伏電池:測量一個(gè)發(fā)光太陽(yáng)電池的正向和反向DC特性,提取參數,cui大功率,cui大電流,cui大電壓,短路電流,開(kāi)路電壓,效率。同時(shí)執行C-V和C-f掃描特性;


標簽:吉時(shí)利Keithley4200-SCS
深圳市中瑞儀科電子有限公司
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