隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的快速增長(cháng)，各種類(lèi)型的真空鍍膜設備生產(chǎn)線(xiàn)也開(kāi)始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì )受到某種因素影響，現在我們就濺控濺射鍍膜機來(lái)看看造成不均勻的因素有哪些。

真空鍍膜設備生產(chǎn)線(xiàn)它的運作原理其實(shí)很簡(jiǎn)單。就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車(chē)燈鍍膜機廠(chǎng)家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。真空狀態(tài)就需要抽氣系統來(lái)控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì )造成真空度不夠，但太長(cháng)又浪費資源，不過(guò)有真空機的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。

在電鍍流程中，電鍍液冷卻，可使金屬、非金屬分子穩定。冷水機通過(guò)給電鍍液冷卻，使金屬分子隨著(zhù)穩定的電流快速貼附上鍍件表面，增加鍍件的平滑和密度，減少電鍍周期，并可有效地回收各類(lèi)昂貴的化學(xué)物質(zhì)。而在精密的真空鍍膜、光學(xué)鍍膜、微弧樣化鍍膜工藝中，工業(yè)冷水機制冷設備也同樣適用。

光學(xué)薄膜快貼技術(shù)這種顛覆性的技術(shù)意味著(zhù)小型車(chē)房和店內車(chē)房更容易入門(mén)鍍膜行業(yè)。復雜且一體化的多層薄膜只需輕松幾步即可附著(zhù)到鏡片上 - 完全取代了傳統鍍膜工藝。

真空鍍膜厚度屬于微米級，1μm 相當于傳統電鍍一條的十分之一，因此經(jīng)過(guò)鍍膜作業(yè)以后，并不會(huì )影響工件的精度；傳統電鍍的批覆方式是以一種包覆的方式在外形成一層電鍍層，并無(wú)高度密著(zhù)性可言。

電鍍填通孔技術(shù)可分為直流電鍍一步法、脈沖電鍍一步法及脈沖電鍍兩步法。
直流電鍍一步法被視為用銅填充通孔的理想工藝，因為它可大限度地減少電鍍槽的數量和縮短電鍍生產(chǎn)線(xiàn)長(cháng)度。但直流電鍍銅填通孔受基板厚度的限制。對于厚度小于0.20 mm、直徑為100μm的基板，搭配的設備和合適的添加劑，使用直流電鍍一步法尚可實(shí)現填通孔。